三星3nm良率突破60%,2nm超40%,多家客户参与测试

2025-05-15 13:45来源:IT之家

 韩国媒体《朝鲜日报》近日报道了三星电子在半导体制造技术上的最新进展。报道指出,三星采用GAA晶体管结构的3纳米和2纳米工艺良率分别突破了60%和40%的水平。这一进展对三星来说具有重要意义,因为此前该公司在先进制程领域一直面临良率和性能方面的挑战,导致外部客户订单较少。 如果3纳米工艺的良率确实达到60%,意味着该技术已接近大规模量产阶段。与此同时,三星的2纳米工艺也取得进展,据行业消息透露,该公司即将进入英伟达GPU和高通移动处理器项目的最后评估阶段。 值得注意的是,有消息称明年下半年发布的三星Galaxy Z Fold8和Flip8折叠屏手机可能会搭载采用三星2纳米工艺制造的高通骁龙8 Elite Gen 2处理器。这表明三星正在积极争取更多先进制程订单,以提升其在半导体代工市场的竞争力。

消息称三星电子 3nm、2nm 良率分别超 60%、40%,正与外部客户展开性能评估

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